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氮气环境无风除电技术原理与应用解析

更新时间:2026-10-15      浏览次数:50

TRIN高柳 TAS-1783 SFS-N2-0580 空间托林克

TRIN高柳 TAS-1783 SFS-N2-0580 空间托林克

针对氮气密闭腔体场景研发的无风离子中和技术,解决普通离子装置在低氧氮气环境难以稳定电离的痛点。设备无需风扇与压缩空气,依靠离子自然扩散实现全域静电中和,不会扰动气流扬起微尘,规避二次污染风险。产品优化放电回路,在高纯度氮气手套箱、密封工艺腔体内也可持续生成正负离子,稳定中和工件表面与空间悬浮电荷。

该技术具备无高压漏电特性,离子平衡波动小,不会损伤精密半导体器件。同时设备功耗较低,无需对腔体内部加湿,适配不能引入水汽的制程。在半导体封装、材料样品存储、精密器件处理等密闭氮气工况,可有效降低静电吸附异物、静电击穿等不良,提升产品良率。设备可多支串联扩展覆盖范围,适配不同腔体尺寸,是惰性气体密闭空间静电防控的优选方案。


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